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地址:
湖南省株洲市天元區(qū)泰山西路2008號聯合廠房八

氮化硅氣氛加壓燒結爐
產品介紹
氮化硅氣氛加壓燒結爐采用非接觸式高溫測量設計、具有真空系統(tǒng)過濾保護與獨特的脫蠟系統(tǒng)及尾氣處理設計。應用氮化硅等非金屬陶瓷材料進行脫成型劑、氣壓燒結、產品致密化等。


產品參數

裝料空間(W*H*L) 500*500*1300、500*500*1500、500*500*1800
設計標準 JB4732-1995(2005年確認版)
設計壽命 20年/6000爐次
最高溫度 2000℃
最高壓力 10MPa
真空泄漏率 ≤5×10-3 mbarl/s
高壓升壓速率 ≤5bar/min
升溫速率
(滿載、<1000℃)
≤10℃/min
升溫速率
(滿載、≥1000℃)
≤6℃/min
溫度均勻性 ≤±5℃
測溫方式 WRe5-26雙芯熱電偶
加熱區(qū)數 三區(qū)/四區(qū)
具備功能 正壓脫蠟、負壓脫蠟、真空燒結、壓力燒結、帶電降溫、加壓快冷、真空冷卻
工藝氣體種類 N2  Ar
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